EPFL 研究人员开发了一种新的高精度技术，使他们能够将纳米图案雕刻成二维材料。这项新技术使研究人员能够用微型手术刀打破原子之间的联系。该团队表示，使用传统光刻技术构建材料极其困难。
传统的光刻技术使用腐蚀性化学物质或加速的带电粒子，如电子或离子。问题是这些方法会破坏材料的特性。新技术使用局部热源和压力源来准确切割材料。该团队将其技术描述为类似于剪纸艺术，但规模要小得多。
该技术使用热量来修改基板并使其更加灵活。在某些情况下，它甚至可以变成气体。在该过程之后，可以更轻松地雕刻 2D 材料。在他们的研究中，该团队使用了二碲化钼，一种类似于石墨烯的二维材料。该材料不到一纳米厚。
二碲化钼被放置在对温度变化发生反应的聚合物上。当聚合物受热时，它会升华，从固态变为气态。研究人员将一个锋利的纳米级尖端加热到 180 摄氏度以上，使其与二维材料接触，然后施加一点力。
计算机驱动系统控制超快速加热和冷却过程以及尖端的位置。该系统允许研究人员制作预定义的凹痕以创建用于纳米电子设备的纳米带。科学家们表示，他们的通用技术将在纳米电子学、纳米光子学和纳米生物技术领域发挥作用，使电子元件更小、更高效。